原图

最终效果

（本文来源于图老师网站，更多请访问https://m.tulaoshi.com/psxpcl/）1、先分析下原图，绿色箭头所示部分有点曝光过渡。

2、把背景图层复制一层，选择菜单：选择 色彩平衡，设置好容差和范围，然后用吸管在图像上高光过亮的地方点击，选出过曝的选区。

3、加上图层蒙版，把图层混合模式改为“正片叠底”。由于“正片叠底”会使图像变暗，但由于蒙版的保护，所以它只会使我们选取的区域变暗，而不会影响其它地方。为了使明暗的地方平常过渡，再执行：滤镜 模糊 高斯模糊，数值自定，然后再适当降低该层的不透明度，过曝的问题得到一定程度改善。

4、如果觉得还有必要继续降低过曝，再将刚才处理过的图层复制一个副本，高光部位进一步变暗。

5、鼻梁、左脸和眉毛部仍有部分不协调的地方。新建一空白层，我们用仿制图章工具来处理这些地方。因为“正片叠底”能降低图像亮度，所以我们把仿制图章的属性页设为“正片叠底”，并降低其不透明度，数值为“对所有图层取样”，按住Alt键在较暗的皮肤上取样，在高光处涂抹，如下图。

6、为了使下面的皮肤纹理和亮光透点上来，适当降低用仿制图章处理过的图层不透明度，使图像不至露出人为的痕迹。

（本文来源于图老师网站，更多请访问https://m.tulaoshi.com/psxpcl/）7、为了使处理的地方更加平常过度，按住Shift键，同时选中上面三个层，并把这三个层建成一个组，取名叫处理高光组。

8、适当减低处理高光组不透明度，使下面的高光和皮肤纹理透点上来，让处理过的地方更加平滑地与周围融合。

最终效果：

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